提升良率、减少成本：曝三星整合量子计算和 AI，升级芯片光刻技术追赶台积电

报道称三星为追赶台积电，正计划在半导体光刻仿真技术整合量子计算和 AI，从而压缩光刻与蚀刻流程的时间和成本，并优化芯片密度与良率。消息称该项目由三星子公司 Samsung SDS 负责推进，计划 2026 年下半年启动技术验证，聚焦针对光刻工艺研发仿真算法，技术路径结合量子计算和 AI，降低光刻与蚀刻流程的时间和成本。光刻是半导体制造中的核心工艺之一，利用光把电路图形转移到晶圆表面的感光材料上，随后再进入刻蚀等步骤形成实际电路结构，常用于先进芯片制造中的图形定义与尺寸控制。